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Pompa per Vuoto LBX R Chimicamente Resistente monotag Grazie alla piastra riscaldante in

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Description

Grazie alla piastra riscaldante in vetroceramica da 184 x 184 mm

mantenendo l'ambiente interno stabile durante il processo di essiccazione sotto vuoto

garantendo la sterilità fino al momento dell'uso

Versioni Disponibili: Disponibile in due versioni: Con Sigillo: Fornisce una chiusura sicura che previene perdite e contaminazioni

Pompa per Vuoto LBX R Chimicamente Resistente monotag Grazie alla piastra riscaldante inLa pompa per vuoto LBX R progettata per resistere a gas e vapori aggressivi o corrosivi, caratterizzata da parti in contatto con il fluido realizzate in Teflon (PTFE). Questa soluzione particolarmente adatta per applicazioni come sistemi di filtrazione, estrazioni in fase solida (SPE), elettroforesi su gel e, nel caso specifico del modello VACU R20 001, anche per evaporatori rotanti. Applicazioni: Utilizzo: Ideale per gas e vapori aggressivi o

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